一、品名‌

高纯钛靶‌：纯度≥99.99%（4N级）的纯钛溅射靶材

钛合金靶‌：含铝、钒等元素的复合靶材（如TC4、TA10）

功能涂层钛靶‌：适配半导体、光学镀膜的特殊表面处理靶材

二、牌号‌

‌国内牌号‌：TA1、TA9 、TC4、TC4 ELI；

国际牌号‌：Gr1、Gr7、Gr5、Gr23。

三、执行标准‌

‌国际标准‌：ASTM B381，钛及钛合金锻件通用规范；

国内标准‌：GB/T 3620 ，高纯钛靶材成分与纯度要求；

宇航标准‌：AMS4900 航空级钛靶材性能与可靠性验证。

四、规格‌

1. 几何尺寸‌

圆盘靶‌：Φ50mm~Φ500mm（厚度20-100mm）

矩形靶‌：最大尺寸3000×1200mm（厚度5-50mm）

管状靶‌：长度≤6000mm（壁厚2-20mm）

2. 纯度与密度‌

工业级‌：纯度≥99.6%，密度4.51g/cm³

电子级‌：纯度≥99.995%（5N级），密度波动≤0.5%

五、工艺‌

1、熔炼成型‌：

真空自耗电弧熔炼（VAR）‌：控制氧含量≤0.15%，提升成分均匀性；

粉末冶金‌：超细钛粉（粒径≤50μm）冷等静压成型，适配异形靶材；

2、精密加工‌：

数控铣削‌：表面粗糙度Ra≤0.8μm，平面度公差±0.02mm；

真空退火‌：消除内应力（温度700-850℃，时间≥2h）；

3、表面处理‌：

电解抛光‌：Ra≤0.4μm，减少镀膜缺陷；

等离子喷涂‌：制备梯度复合靶材；

六、用途‌

半导体‌：芯片金属化层、阻挡层沉积；

光学镀膜‌：增透膜、反射镜涂层；

工业涂层‌：刀具耐磨涂层、防腐镀层；

七、分类‌

1. 按成分分类‌

α型钛靶‌：TA1/TA2纯钛，耐腐蚀性强，适配化工镀膜；

α+β型钛靶‌：TC4/TC11合金，高强度，用于耐磨涂层；

β型钛靶‌：TB6/TB8合金，低温韧性优，适配极端环境镀膜；

2. 按形态分类‌

平面靶‌：标准圆盘/矩形，占市场份额70%以上；

旋转靶‌：管状结构，镀膜均匀性提升30%；